小型離子濺射儀參數：
1.腔體尺寸：石英玻璃，直徑150mm*高度130mm
2.供電規格：AC220V，200w
3.適用靶材：貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
4.樣品臺可調高度：20~50mm
5.樣品臺尺寸：直徑55mm
6.工作真空度：1~10Pa
7.氣體路數：單路
8.氣體流量：手動調節
9.控制：觸屏控制
10.外形尺寸：260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
11.重量：10KG
12.真空泵：VRD-8
小型離子濺射儀簡介：
1、人性化設計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。
2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。
3、鍍膜均勻細密，適用于多種靶材。
4、樣品臺可以快速調節，方便取放樣品。
5、儀器性能可靠，設有多重安全保護機制。
小型離子濺射儀是一種物理氣相沉積技術，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面，將材料濺射出來并沉積在底片上，從而制備出薄膜。相比于傳統的濺射技術，小型離子濺射儀具有以下優點：設備小巧、易于操作、比較經濟、沉積溫度較低、沉積速率高、薄膜質量較好等優點。因此，它已廣泛應用于微納米材料和表面科學等領域。
小型離子濺射儀是一種重要的表面處理設備，它通過將高能離子注入目標材料表面來改變其物理和化學性質。其主要特點包括：
1. 尺寸小巧：通常具有較小的尺寸和體積，可以在較小的實驗室中使用，方便實驗者們進行科研工作。
2. 高效性能：具有較高的功率密度和離子能量，可以快速地改變目標材料的物理性質和化學性質。
3. 穩定性強：采用先進的控制技術和優質的材料制造，具有良好的穩定性和可靠性。
4. 操作簡單：使用方便，操作簡單，即使對于新手也可以快速上手。
5. 廣泛應用：不僅可以應用于材料科學領域，而且可以應用于生物醫學、電子技術、能源領域等各個領域。
在使用小型離子濺射儀時，需要注意一些問題，如真空度、離子束流控制、目標材料的選擇和后續處理等問題。只有合理地運用小型離子濺射儀可以達到更好的實驗效果和更高的科研成果。
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